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    做完二氧之后陽極膜脫落,是什么原因

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    做完二氧之后陽極膜脫落,是什么原因

    發布日期:2018-07-18 11:44 來源:http://www.edg-ltd.com 點擊:

    首先,一次氧化做黑色,氧化膜至少10?以上,這樣氧化的時間至少25min以上;考慮到要做二氧,(不僅要效率高,質量也要好),廠家往往一次氧化的時候,氧化時間至少30min以上,以形成較厚的氧化膜,便于黑色上黑一點;同時,也會酌情加大電壓,提高硫酸濃度,增加槽液溫度等等;

    這樣一來,加大電壓,可能導致陽極氧化膜孔口變大,提高硫酸濃度,會導致陽極氧化膜壁增厚,降低氧化膜,阻擋層與鋁基材的附著力;增加槽液溫度,是可以縮短氧化時間,但是直接會導致氧化膜壁可能產生裂縫,增加二次氧化后脫落的風險,到了封孔環節,封孔劑的質量也極大的影響是否會脫落?譬如,封孔劑偏酸,封閉肯定不良,同時會腐蝕一氧的氧化膜,封孔劑PH>6.5水解封閉的效果已經很差了,封閉肯定也不良,耐瞬時電壓性能很差,容易被擊穿(現在廠家硅片機器已經很少了)所以選用優秀的封閉劑是很重要的.

    當然,二氧之前的除油,偏酸或者偏堿也會影響氧化膜,也可能影響脫落;到了二次氧化環節,考慮到二氧做灰色,也是要較厚的膜,以上的這些參數也必然影響脫落;

    另外,還有一些因素,會導致脫落,譬如,接觸不良,局部電壓過大,槽液溫度不均勻。。等等好多因素也有可能,請綜合整體參數,科學判斷!


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